斯菩銳雙向磨粒流體拋光機機原理使高分子體磨料往復(fù)擠壓運動的方式（猶如人工拉布條往復(fù)運動），其工作壓力可以自由調(diào)節(jié)， 在PLC觸摸屏上可以選擇拋光參數(shù)進(jìn)行不同的行程和不同的循環(huán)次數(shù)。此種加工使高分子軟體磨料流經(jīng)要拋光處理的內(nèi)孔表面進(jìn)行去毛邊、倒角、以及所謂的鏡面拋光等加工工藝。 斯菩銳單向磨粒流體拋光機工作原理僅使高分子軟體磨料在推力作用下朝一個方向流經(jīng)工件內(nèi)孔，單向磨粒流體拋光機可依PLC計算機控制，達(dá)到自動、經(jīng)濟、高效拋光,其拋光痕跡和工件使用的方向一致,因此具有同方向規(guī)格性加工特點。 隨著磨粒流拋光